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医療機器への組み込みに対応、DPSSレーザーとOPOをひとつに、最大エネルギー 最大65 mJ@665～2600nm
光音響イメージング用 高出力DPSS波長可変レーザー PhotoSonus X
EP57
EKSPLA
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長寿命・メンテナンスフリー、最大2.5kHzの繰り返し周波数において、高エネルギーを実現
組み込み用途に最適小型ナノ秒高繰返しLD励起固体レーザー NL200シリーズ
- 仕様更新
EP70
EKSPLA
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210 〜 2600 nmギャップフリー波長可変、高繰り返し周波数10kHz、線幅 <1.5cm-1可、最大0.7W出力
ナノ秒挟線幅10kHz波長可変レーザー（OPO） NT262シリーズ
EP67
EKSPLA
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シングル縦モードDPSSオシレーター採用、エネルギー最大10J、パルス幅2～25ns、繰り返し周波数10Hz
シングル縦モード（SLM）高エネルギーナノ秒Nd:YAGレーザー ANL SLMシリーズ
- 仕様更新
EP41
EKSPLA
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幅広い波長出力 210 〜 2600 nm、335 〜 2600 nm、2500 〜 4475 nm、ナノ秒パルス、1kHzの繰返し周波数
ナノ秒高繰返し波長可変レーザー(OPO) NT240/NT250/NT270シリーズ
- 仕様更新
EP18
EKSPLA
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フルDPSS、空冷、エネルギー最大140 mJ、パルス幅 20 〜 80 ps、繰り返し周波数 50 〜 100Hz
ピコ秒LD励起高エネルギー固体レーザー PL2230シリーズ
EP11
EKSPLA
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高繰り返し 最大2kHz、パルスエネルギー150 ｍJ、パルス幅20 〜 300 ps、ダイオード励起固体ピコ秒増幅器
高繰り返しダイオード励起ピコ秒増幅器 APL HPシリーズ
EP72
EKSPLA
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4チャンネル × 2200mJ @ 10Hz、8チャンネル × 130 mJ @ 1 kHz、パルス幅20 〜 300ps
マルチチャンネル・カスタム・ピコ秒増幅器 APL customシリーズ
EP68
EKSPLA
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最大10J高エネルギー、パルス幅5ns、繰り返し周波数10/20Hz、高エネルギー安定度0.5％(rms)
マルチモード（MM）高エネルギーナノ秒Nd:YAGレーザー ANL MMシリーズ
EP43
EKSPLA
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フェムト秒波長可変 (750 〜 960 nm, 375 〜 480 nm, 250 〜 320 nm, 210 〜 230 nm)、最大14mJ@1KHz、完全同期フェムト秒/ピコ秒パルス出力オプション
高繰り返しOPCPA 波長可変フェムト秒レーザー UltraFlux HRシリーズ
EP25
EKSPLA
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高強度TWレーザーシステム、パルスエネルギー最大1J、繰り返し周波数最大100Hz、パルス幅 10 fs可
高エネルギーOPCPA 波長可変フェムト秒レーザー UltraFlux HEシリーズ
EP46
EKSPLA
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OPCPA*（光パラメトリックチャープパルス増幅）による1kHz高繰り返し、> 120 mJ、サブ8 fs、ピークパワー15 TW
高繰り返しテラワットレーザーシステム UltraFlux Custom
EP51
EKSPLA
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GHz/MHzバースト、完全空冷、ゼロ・メンテナンスを実現。
2024年 国際会議SPIEにてPrizm Awardを受賞。高出力・完全空冷 産業用フェムト秒レーザー FemtoLux
- 仕様更新
EP65
EKSPLA
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長年の経験と実績に裏打ちされた確かな技術力
ポッケルスセルドライバー（Pockels Cell Drivers）及びHV電源（HV Power Supplies）-PCD series
- 仕様更新
EP29
EKSPLA
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