高繰り返しテラワットレーザーシステム SYLOS 2A
OPCPA(光パラメトリックチャープパルス増幅)による1kHz高繰り返し、高平均出力、数TW出力

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高繰り返しテラワットレーザーシステム SYLOS 2A 高繰り返しテラワットレーザーシステム SYLOS 2A

高繰り返しテラワットレーザーシステム SYLOS 2A 製品概要

リトアニア国ヴィリニュス大学で開発されたOPCPAは、従来のフェムト秒チタンサファイアよりも、高い平均出力、優れた時間コントラストおよびバンド幅が得られます。本装置は、ハンガリーにある高強度レーザー施設「ELI-ALPS」に2019年に本レーザーが納入されております。繰り返し周波数1kHz、ピーク出力5TW以上、平均出力35W、CEP安定化されたパルス幅6.6fsを出力します。本レーザーは、現時点で数TW、数サイクルのレーザーで世界最高の平均出力です。

特長

  • 1kHz繰り返し周波数
  • 平均出力 >35W
  • ピーク強度 5TW
  • パルス幅  <7fs
  • CEP ~220mrad
  • ASE フリー

アプリケーション

  • 加速器
  • 高次高調波発生、EUV、XUV
  • アト秒
  • X線発生
  • 高エネルギー粒子線発生

文献

"The ELI-ALPS facility: the next generation of attosecond sources"
https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6455/aa6ee8

"53 W average power CEP-stabilized OPCPA system delivering 5.5 TW few cycle pulses at 1 kHz repetition rate" 
https://www.osapublishing.org/oe/fulltext.cfm?uri=oe-25-5-5797&id=360577

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