高繰り返しテラワットレーザーシステム UltraFlux Custom
OPCPA(光パラメトリックチャープパルス増幅)による1kHz高繰り返し、> 120 mJ、サブ8 fs、ピークパワー15 TW

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高繰り返しテラワットレーザーシステム UltraFlux Custom 高繰り返しテラワットレーザーシステム UltraFlux Custom

高繰り返しテラワットレーザーシステム UltraFlux Custom 製品概要

ヴィリニュス大学で開発されたOPCPAは、従来のフェムト秒チタンサファイアよりも、高い平均出力、優れた時間コントラストおよびバンド幅が得られます。本装置は、ハンガリーにある高強度レーザー施設「ELI-ALPS」に2019年に本レーザーが納入されております。繰り返し周波数1kHz、ピーク出力5 TW以上、平均出力35W、CEP安定化されたパルス幅6.6 fsを出力します。
 新たなレーザーシステムSYLOS3は、ピークパワー15TW、繰り返し周波数1KHz、パルス幅8フェムト秒という、これまで市販の装置では達成できなかったユニークなパラメータを実現します。2019年納入されELI-ALPSに設置さたSYLOS2Aシステムと比較して、3倍以上のピークパワーと平均パワーを実現することができます。このシステムは高次高調波発生によるコヒーレントX線発生や、電子加速など様々な用途に利用できます。

特長

  • 1kHz繰り返し周波数
  • 平均出力 >120 W
  • ピーク強度 15 TW
  • パルス幅  <8 fs
  • CEP ~220mrad
  • ASE フリー

アプリケーション

  • 加速器
  • 高次高調波発生、EUV、XUV
  • アト秒
  • X線発生
  • 高エネルギー粒子線発生

文献

"The ELI-ALPS facility: the next generation of attosecond sources"
https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6455/aa6ee8

"53 W average power CEP-stabilized OPCPA system delivering 5.5 TW few cycle pulses at 1 kHz repetition rate" 
https://www.osapublishing.org/oe/fulltext.cfm?uri=oe-25-5-5797&id=360577

高繰り返しテラワットレーザーシステム UltraFlux Custom

型名 UltraFlux FF401k-F8-CEP UltraFlux FF1201k-F8-CEP
出力エネルギー 40 mJ 120 mJ
ピーク出力 > 5 TW > 15 TW
パルス繰り返し率 1kHz
波長 900 nm
パルス幅 ≦ 8 fs (≦ 3サイクル)
エネルギー安定度 ≤ 1 %
長時間出力ドリフト ± 1.5 %
CEP安定度 ≦ 250 mrad
ビームプロファイル スーパーガウシアン
ビーム径 〜 50 mm 〜 100 mm
ビーム位置安定度 ≦ 20 µrad
ストレール比 > 0.7
時間コントラスト
APFC (± 50 ps以内) 106: 1
プリパルス (≤ 50 ps) 1011: 1
ポストパルス (>50 ps) 108: 1
サイズ
レーザーヘッド(W×L×H mm) 9000 × 5000 × 1200 9000 × 9000 × 1200
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