製品概要
ヴィリニュス大学で開発されたOPCPA*は、従来のフェムト秒チタンサファイアよりも、高い平均出力、優れた時間コントラストおよびバンド幅が得られます。本装置は、ハンガリーにある高強度レーザー施設「ELI-ALPS」に2019年に本レーザーが納入されております。繰り返し周波数1kHz、ピーク出力5 TW以上、平均出力35W、CEP安定化されたパルス幅6.6 fsを出力します。
新たなレーザーシステムSYLOS3は、ピークパワー15TW、繰り返し周波数1KHz、パルス幅8フェムト秒という、これまで市販の装置では達成できなかったユニークなパラメータを実現します。2019年納入されELI-ALPSに設置さたSYLOS2Aシステムと比較して、3倍以上のピークパワーと平均パワーを実現することができます。このシステムは高次高調波発生によるコヒーレントX線発生や、電子加速など様々な用途に利用できます。
OPCPAとは
光パラメトリックチャープパルス増幅の略で、従来のTi:サファイアよりも高い出力が得られ、優れた時間コントラスト、広帯域バンド幅を実現します。
特長
- 1kHz繰り返し周波数
- 平均出力 >120 W
- ピーク強度 15 TW
- パルス幅 <8 fs
- CEP ~220mrad
- ASE フリー
用途・アプリケーション
- 加速器
- 高次高調波発生、EUV、XUV
- アト秒
- X線発生
- 高エネルギー粒子線発生
文献
仕様
型名 | UltraFlux FF401k-F8-CEP | UltraFlux FF1201k-F8-CEP |
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出力エネルギー | 40 mJ | 120 mJ |
ピーク出力 | > 5 TW | > 15 TW |
パルス繰り返し率 | 1kHz | |
波長 | 900 nm | |
パルス幅 | ≦ 8 fs (≦ 3サイクル) | |
エネルギー安定度 | ≤ 1 % | |
長時間出力ドリフト | ± 1.5 % | |
CEP安定度 | ≦ 250 mrad | |
ビームプロファイル | スーパーガウシアン | |
ビーム径 | 〜 50 mm | 〜 100 mm |
ビーム位置安定度 | ≦ 20 µrad | |
ストレール比 | > 0.7 | |
時間コントラスト | ||
APFC (± 50 ps以内) | 106: 1 | |
プリパルス (≤ 50 ps) | 1011: 1 | |
ポストパルス (>50 ps) | 108: 1 | |
サイズ | ||
レーザーヘッド(W×L×H mm) | 9000 × 5000 × 1200 | 9000 × 9000 × 1200 |
更新日 | 更新内容 | サイズ | ダウンロード |
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