製品概要
小型フラッシュランプ励起QスイッチNd:YAGレーザー NL300シリーズは、コンパクトなレーザーヘッドにもかかわらず、パルス幅 3~6 ns、繰り返し周波数5Hzで最大1200 mJ@1064nmの高エネルギーを発振するレーザーです。
パルスエネルギーの安定性は、1％ StDev以下と非常に安定しています。また、ランプ交換は簡単で、ミスアライメントなくおこなえます。
また高調波発生器は、容易に取り外しができる独立タイプで、第5高調波の213nmまでお選びいただけます。
多様な高調波発生器、アッテネーター(減衰器)
高調波発生器はモジュール設計されており、ご必要となる波長に応じて容易に交換がおこなえます。
温調された非線形結晶モジュール、高調波を分離するダイクロイックミラーモジュールなどがあり、ご用途に応じて組合せてご使用いただけます。
また、パルスエネルギーを調整できるアッテネーターモジュール(減衰器)もございます。 安定性を低下させることなくパルスエネルギーを可変させることが可能になります。
特長
- 小型かつ堅牢
- 最大パルスエネルギー：1200 mJ@1064nm
- 高調波発生器オプション： 532nm, 355nm, 266nm, 213 nmから選択可能
- 繰り返し周波数：5～20 Hzから選択可能
- パルス幅：3~6 ns
- 優れた出力安定性：1 % StDev 以上
- ミスアライメントのない容易なランプ交換
- RS-232, USBインターフェイス標準搭載
用途
- 材料加工
- LIBS
- OPO
- リモートセンシング
- レーザー分光
- LIDAR
- OPO、Ti:サファイアレーザー、色素レーザーの励起光源
- LIF
標準仕様
| 型名 | NL303HT | NL305HT | |
|---|---|---|---|
| 繰返し周波数 | 10 Hz | 20 Hz | 10 Hz |
| パルスエネルギー | |||
| 1064 nm | 800 mJ | 700 mJ | 1000 mJ |
| 532 nm | 380 mJ | 320 mJ | 500 mJ |
| 355 nm | 250 mJ | 210 mJ | 320 mJ |
| 266 nm | 80 mJ | 60 mJ | 100 mJ |
| 213 nm | 13 mJ | 10 mJ | 20 mJ |
| 出力安定性 | |||
| 1064 nm | 1% | ||
| 532 nm | 1.50% | ||
| 355 nm | 3% | ||
| 266 nm | 3.50% | ||
| 213 nm | 6% | ||
| パワードリフト | ±2% | ||
| パルス幅 | 3 ～ 6 ns | ||
| 偏光 | 垂直, ＞90％ | 垂直, ＞65％ | |
| ジッター | <0.5 ns, rms | ||
| 線幅 | ＜1 cm-1@1064 nm | ||
| ビームプロファイル | ハットトップ(ニアフィールド) | ||
| 近ガウンシアン(ファーフィールド) | |||
| ビーム径 | ～ 8 mm | ～ 10 mm | |
| ビーム拡がり角 | ＜0.6 mrad | ||
| ビーム位置安定性 | 50 μrad, rms | ||
高調波モジュール
入射ビームの偏光を調整するためのλ/2波長板と2倍波発生結晶で構成されております。
波長1064nmと532nmの光が同一の出力ポートから出射されます。
寸法：154(W)×128(H)×160(L)mm
入射ビームの偏光を調整するためのλ/2波長板と3倍波発生結晶で構成されております。
H300SHと組み合わせて使用することで波長355nmの光が出力ポートから出射されます。
寸法：154(W)×128(H)×160(L)mm
H300SHと組み合わせ使用することで波長1064nmと波長532nmの光を分離し
別々の出力ポートから出射されます。
寸法：154(W)×128(H)×160(L)mm
2倍波発生モジュール(H300SH)と波長分離モジュール(H300S)が一体型となった2倍波発生モジュールです。波長1064nmと波長532nmの光が別々の出力ポートから出射されます。
寸法：154(W)×128(H)×210(L)mm
2倍波発生モジュール(H300SH)と3倍波発生モジュール(H300TH)が一体型となった高調波発生モジュールです。波長1064nm／波長532nm／波長355nmの光が同一の出力ポートから出射されます。
寸法：154(W)×128(H)×210(L)mm
H300STHまたはH300SH/H300THと組み合わせ使用することで波長532nmと波長355nmの光を分離し別々の出力ポートから出射されます。
寸法：154(W)×128(H)×160(L)mm
3倍波発生モジュール(H300TH)と波長分離モジュール(355nmと1064nm/532nm)が一体型となった3倍波発生モジュールです。
2倍波発生モジュール(H300SH)と組み合わせて使用することで波長355nmと波長1064nm/532nmの光が別々の出力ポートから出射されます。
寸法：154(W)×128(H)×210(L)mm
4倍波発生モジュール(266nm)と波長分離モジュール(266nmと532nm)が一体型となった4倍波発生モジュールです。
2倍波発生モジュール(H300SH)と組み合わせて使用することで波長266nmと波長532nmの光が別々の出力ポートから出射されます。
寸法：154(W)×128(H)×290(L)mm
アッテネーターモジュール
入射ビームの偏光を調整するためのλ/2波長板と水平偏光成分のみが透過する薄膜偏光子で構成された波長1064nmに対応した偏光型のアッテネーターです。
5%～95%間で透過率を調整できます。
寸法：154(W)×128(H)×210(L)mm
入射ビームの偏光を調整するためのλ/2波長板と水平偏光成分のみが透過する薄膜偏光子で構成された波長532nmに対応した偏光型のアッテネーターです。
5%～95%間で透過率を調整できます。
2倍波発生モジュール(H300SH)と組み合わせて使用します。
寸法：154(W)×128(H)×210(L)mm
入射ビームの偏光を調整するためのλ/2波長板と水平偏光成分のみが透過する薄膜偏光子で構成された波長355nmに対応した偏光型のアッテネーターです。
5%～95%間で透過率を調整できます。
3倍波発生モジュール(H300STHまたはH300SH/H300TH)と組み合わせて使用します。
寸法：154(W)×128(H)×210(L)mm
4倍波発生モジュール(266nm)
入射ビームの偏光を調整するためのλ/2波長板と水平偏光成分のみが透過する薄膜偏光子で構成された波長266nmに対応した偏光型のアッテネーターです。5%～95%間で透過率を調整できます。
2倍波発生モジュール(H300SH)と組み合わせて使用します。
寸法：154(W)×128(H)×350(L)mm
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| 更新日 | 更新内容 | サイズ | ダウンロード |
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