OPCPA 波長可変フェムト秒レーザー UltraFlux
超短パルス(35fs、<10fs)、フェムト秒波長可変レーザー、省スペース・ワンボックス

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OPCPA 波長可変フェムト秒レーザー UltraFlux OPCPA 波長可変フェムト秒レーザー UltraFlux

OPCPA 波長可変フェムト秒レーザー UltraFlux 概要

UltraFluxはOPCPA(光パラメトリックチャープパルス増幅)を採用したフェムト秒波長可変レーザーです。 
ファイバーレーザーと光パラメトリック増幅の優れたテクノロジーにより1平方メートル未満(1.2×0.75m)とコンパクトなレーザーシステムを実現しております。またお客様のご要望に応じてカスタマイズも可能です。

特長

  • OPCPA(光パラメトリックチャープパルス増幅)テクノロジー採用
  • 全自動波長掃引
  • パルス幅 20 fs~60 fs
  • 最大繰返し周波数 1 kHz
  • 最大パルスエネルギー 3mJ
  • 優れたパルス安定度 1 %以下
  • ファイバーレーザーフロントエンド(特許No.EP2827461, EP2924500)
  • 堅牢でコンパクトな筐体(1.2×0.75m)

用途

  • フェムト秒ポンプ-プローブ分光
  • ブロードバンドCARS, SFG
  • 非線形分光
  • 高次高調波発生

オプション

  • CEP安定化
  • 第2高調波モジュール 375~480 nm
  • 第3高調波モジュール 250~320 nm
  • 第4高調波モジュール 210~230 nm
  • ピコ秒パルス出力可能(フェムト秒パルスに同期、トランスフォームリミテッドパルス)
  • PLL(Phase locking loop)による外部同期(ジッター <1 ps)

OPCPA 波長可変フェムト秒レーザー UltraFlux 仕様

型名 UltraFlux FT031K UltraFlux FT31K UltraFlux FT310
パルスエネルギー 300 µJ 3 mJ
第2高調波 変換効率 20%(440 nm)
第3高調波 変換効率 5%(290 nm)
第4高調波 変換効率 1%(220 nm)
波長可変域
基本波 700~1010 nm 750~960 nm
第2高調波 375~480 nm
第3高調波 250~320 nm
第4高調波 210~230 nm
スキャンステップ
第2高調波 5 nm
第3高調波 3 nm
第4高調波 2 nm
パルス幅 35~60 fs 20~60 fs
繰り返し周波数 1 kHz 10 Hz
パルスエネルギー安定性 < 1.5 %, rms
出力安定性 < 1.5 %, rms
空間モード スーパーガウシアン
ビーム経 (1/e²) 2 mm 7 mm
パルスコントラスト ≥ 10⁻⁶ : 1 (within ± 50 ps)
≥ 10⁻⁸ : 1 (ナノ秒域)
偏光 直線、横方向
ビーム位置安定性 ≤50 µrad, rms
RFシグナルジッター < 1 ps
寸法 1.2 × 0.75 m 1.2 × 2.0 m
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