マルチモード(MM)高エネルギーナノ秒Nd:YAGレーザー ANL MMシリーズ
最大10J高エネルギー、パルス幅5ns、繰り返し周波数10/20Hz、高エネルギー安定度0.5%(rms)

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マルチモード(MM)高エネルギーナノ秒Nd:YAGレーザー ANL MMシリーズ マルチモード(MM)高エネルギーナノ秒Nd:YAGレーザー ANL MMシリーズ

製品概要

 ANL MMシリーズレーザーは、1064 nmで高エネルギーナノ秒パルスを出力出来ます。高パルスエネルギー、優れたエネルギー安定性、優れたビーム品質により、OPOやチタンサファイアの励起、材料加工、プラズマ発光などの用途に適しています。
 ANL MMシリーズのオシレーターは高い信頼性と安定を実現しておりメンテナンス性が高くコンパクトな設計になっております。オプションによりM2値の高いバージョンもあり、より多くのモードの発振を可能にする独自のPro-Longed設計を採用しており、M2値は最大90が可能です。これにより、ビームプロファイルは非常に均質かつ平坦になり、多くのアプリケーションで有用です。
 ANLシリーズのリニア増幅器は、高エネルギー出力に適しており非常に高効率です。高度なビーム整形により、ホットスポットのない滑らかなビーム空間プロファイルを実現します。優れた偏光特性により、オプションの内蔵高調波発生器にて4倍高調波まで高効率で発生させることができます。シンプルで実績のある設計により、メンテナンスが容易で、信頼性の高い長期運用が可能です。

特長

  • パルスエネルギー 最大10J
  • パルス幅 5 ns
  • パルス幅オプションにて最大 20 ns可能
  • パルス繰り返し周波数 10または20Hz
  • 優れたパルスエネルギー安定性 0.5% RMS
  • より平坦なビームプロファイルが可能とする高M2値バージョンあり
  • 高効率ポンプチャンバーと高度なビーム整形により、最大限のパルスエネルギーを出力
  • 増幅器段間のリレーイメージングにより、滑らかなビームプロファイルを実現
  • 内部/外部同期 低ジッター

アプリケーション

  • OPO、チタンサファイア、色素レーザー励起
  • 材料加工
  • プラズマ発生
  • 非線形分光法
  • リモートセンシング

マルチモード(MM)高エネルギーナノ秒Nd:YAGレーザー ANL MMシリーズ

型名 ANL3k10 ANL5k10 ANL7k10 ANL10k10
パルスエネルギー
1064 nm 3000 mJ 5000 mJ 7000 mJ 10000 mJ
532 nm 1500 mJ 2500 mJ 3500 mJ 5000 mJ
355 nm 1000 mJ 1300 mJ 1700 mJ 2000 mJ
266 nm 270 mJ 400 mJ 500 mJ 700 mJ
繰返し周波数 10 Hz
パルス幅 5 ± 1 ns
エネルギー安定度
1064 nm ≤ 0.5 %
532 nm ≤ 1 %
355 nm ≤ 2 %
266 nm ≤ 3 %
長時間出力ドリフト ± 2 %
ビームプロファイル スーパーガウシアン
M²値 〜 5
ビーム径 〜 18 mm 〜 25 mm
ビーム位置安定度 ≤ 50 µrad
ビーム拡がり角 ≤ 0.5 mrad
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