製品概要
NanoFlux MM シリーズレーザーは、1064 nmで高エネルギーナノ秒パルスを出力出来ます。高パルスエネルギー、優れたエネルギー安定性、優れたビーム品質により、OPOやチタンサファイアの励起、材料加工、プラズマ発光などの用途に適しています。
NanoFlux MM シリーズのオシレーターは高い信頼性と安定を実現しておりメンテナンス性が高くコンパクトな設計になっております。オプションによりM2値の高いバージョンもあり、より多くのモードの発振を可能にする独自のPro-Longed設計を採用しており、M2値は最大90が可能です。これにより、ビームプロファイルは非常に均質かつ平坦になり、多くのアプリケーションで有用です。
NanoFlux シリーズのリニア増幅器は、高エネルギー出力に適しており非常に高効率です。高度なビーム整形により、ホットスポットのない滑らかなビーム空間プロファイルを実現します。優れた偏光特性により、オプションの内蔵高調波発生器にて4倍高調波まで高効率で発生させることができます。シンプルで実績のある設計により、メンテナンスが容易で、信頼性の高い長期運用が可能です。
特長
- パルスエネルギー 最大10J
- パルス幅 5 ns
- パルス幅オプションにて最大 20 ns可能
- パルス繰り返し周波数 10または20Hz
- 優れたパルスエネルギー安定性 0.5% RMS
- より平坦なビームプロファイルが可能とする高M2値バージョンあり
- 高効率ポンプチャンバーと高度なビーム整形により、最大限のパルスエネルギーを出力
- 増幅器段間のリレーイメージングにより、滑らかなビームプロファイルを実現
- 内部/外部同期 低ジッター
アプリケーション
- OPO、チタンサファイア、色素レーザー励起
- 材料加工
- プラズマ発生
- 非線形分光法
- リモートセンシング
仕様1)
| 型名 | NanoFlux N3k10 |
NanoFlux N5k10 |
NanoFlux N7k10 |
NanoFlux N10k10 |
|---|---|---|---|---|
| パルスエネルギー | ||||
| 1064 nm | 3000 mJ | 5000 mJ | 7000 mJ | 10000 mJ |
| 532 nm2)3) | 1500 mJ | 2500 mJ | 3500 mJ | 5000 mJ |
| 355 nm2) | 1000 mJ | 1300 mJ | 1700 mJ | 2000 mJ |
| 266 nm2) | 270 mJ | 400 mJ | 500 mJ | 700 mJ |
| 繰り返し周波数 | 10 Hz | |||
| パルス幅4) | 5 ± 1 ns | |||
| エネルギー安定性5) | ||||
| 1064 nm | ≤ 0.5 % | |||
| 532 nm | ≤ 1 % | |||
| 355 nm | ≤ 2 % | |||
| 266 nm | ≤ 3 % | |||
| ⻑時間 出⼒ドリフト6) |
≤ 2 % | |||
| ビーム プロファイル7) |
スーパーガウシアン | |||
| M2 8) | 〜5 | |||
| ビーム径9) | 〜18 mm | 〜25 mm | ||
| ビーム位置安定性10) | ≤50 μrad | |||
| ビーム拡がり⾓ | ≤ 0.5 mrad | |||
| 光学 パルスジッター11) |
≤ 0.5 ns | |||
| 線幅 | ≤ 1 cm-1 | |||
| 偏光 | 直線 | |||
| ⼨法12) | ||||
| レーザーヘッド | 460 x 1250 x 260 mm | 500 x 1300 x 300 mm | 600 x 1800 x 300 mm | 700 x 2000 x 300 mm |
| 電源 | 550 x 600 x 1250 mm | 550 x 600 x 1250 mm | 550 x 600 x 1250 mm | 550 x 600 x 1640 mm |
| アンビリカル ケーブル⻑13) |
5 m | |||
| ユーティリティ14) | ||||
| 要求電源15) | 208,380 or 400 V AC、３相、50 / 60 Hz | |||
| 消費電⼒16) | ≤5 kVA | ≤ 6 kVA | ≤ 7 kVA | ≤ 8 kVA |
| 冷却⽔要求16) | ≤ 5l / min, 2bar, max15 ℃ |
≤ 5l / min, 2bar, max15 ℃ |
≤ 12l / min, 2bar, max15 ℃ |
≤ 12l / min, 2bar, max15 ℃ |
| 使⽤中の環境温度 | 22 ± 2 ℃ | |||
| 環境温度 | 15 〜 35 ℃ | |||
| 環境湿度 | ≤ 80 % | |||
| 使⽤環境クラス | ISO Class7 | |||
1）仕様は予告なく変更になる場合がございます。何卒ご了いただけますようよろしくお願い申し上げます。仕様につきましての保証値が必要になる場合、指定値がある場合にはカスタマイズに応じることも可能です。1064 nm時における値となりますことご了承願います。
2）⾼調波発⽣機構はオプションとなります。基本波やそれぞれの⾼調波の同時出⼒はできません。
3）SHはLBO結晶にて⾏われます。変換効率は70 %まで増加できます。TH/FHオプションはSHより50 %エネルギー減少します。
4）パルス幅は2 nsが標準です。2 〜 25 nsまでカスタマイズ可能です。エネルギーはパルス幅に変更にともない変わります。
5）安定した環境における60秒間のRMS値です。
6）周辺環境2 ℃以下の変動で、30分暖機後に8時間に渡り測定しました。
7）ニアフィールドにおける6 〜 11次の空間モードです
8）M2値は〜 5が標準です。10 〜 90 のレンジも対応可能です。
9）ガウシアンビームの1/e2時、スーパーガウシアンのFWHM の値です。
10）集光光学系のフォーカルプレーンにおける測定です。
11）Trig out > 3.5 V @ 50 Ω
12）設置スペースや特注により多少のサイズ変更は可能です。
13）10 mまで対応可能です。
14）堅牢な作業台の上に設置し、空調設備の空気⼝から離れた場所に設置してください。
15）電圧変動は10-15 %としてください。
16）システムによって変わってきますので、ご注意ください。
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| 更新日 | 更新内容 | サイズ | ダウンロード |
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