コンパクト、最大1200 mJ@5Hzの高エネルギー発振を実現

小型フラッシュランプ励起Qスイッチ ナノ秒Nd:YAGレーザー NL300シリーズ

• 仕様更新

EP42

EKSPLA

ナノ秒パルス、高パルスエネルギー 最大15 mJ、192 nm～2.6μmまで波長可変

高エネルギー広帯域波長可変ナノ秒レーザー NT230シリーズ

EP60

EKSPLA

最大250mJの高出力エネルギー、可搬可能モデル
高速波長掃引、テーブルトップモデル（PhotoSonus-T）

波長可変光音響イメージング用光源 PhotoSonus M

EP27

EKSPLA

医療機器への組み込みに対応、DPSSレーザーとOPOをひとつに、最大エネルギー 最大65 mJ@665～2600nm

光音響イメージング用 高出力DPSS波長可変レーザー PhotoSonus X

EP57

EKSPLA

ナノ秒、高エネルギー　最大90 mJ、192 〜 4400 nm、10/20Hz

ナノ秒波長可変レーザー（OPO）NT340シリーズ

• 仕様更新

EP35

EKSPLA

高繰り返し100 Hzにて高エネルギー150 mJ@1064nm、最短パルス幅2～4ns

高出力ナノ秒LD励起QスイッチDPSSレーザー NL230シリーズ

• 仕様更新

EP08

EKSPLA

長寿命・メンテナンスフリー、最大2.5kHzの繰り返し周波数において、高エネルギーを実現
組み込み用途に最適

小型ナノ秒高繰返しLD励起固体レーザー NL200シリーズ

• 仕様更新

EP70

EKSPLA

シングル縦モードDPSSオシレーター採用、エネルギー最大10J、パルス幅2～25ns、繰り返し周波数10Hz

シングル縦モード（SLM）高エネルギーナノ秒Nd:YAGレーザー ANL SLMシリーズ

• 仕様更新

EP41

EKSPLA

210 〜 2600 nmギャップフリー波長可変、高繰り返し周波数10kHz、線幅 <1.5cm^-1可、最大0.7W出力

ナノ秒挟線幅10kHz波長可変レーザー（OPO） NT262シリーズ

EP67

EKSPLA

幅広い波長出力 210 〜 2600 nm、335 〜 2600 nm、2500 〜 4475 nm、ナノ秒パルス、1kHzの繰返し周波数

ナノ秒高繰返し波長可変レーザー(OPO) NT240/NT250/NT270シリーズ

• 仕様更新

EP18

EKSPLA

パルス時間波形を任意（AWG）に制御
高エネルギー 最大10J、OPCPA励起に最適

高エネルギー時間波形制御ナノ秒YAGレーザー ANL AWGシリーズ

EP40

EKSPLA

1053 nm、エネルギー最大80J、ナノ秒100ps 〜 20ns

高エネルギーナノ秒Nd:Glassレーザー　ANL Nd:Glassシリーズ

EP73

EKSPLA

小型でありながらも200mJ＠1064nm、125mJ＠532nmを出力、低価格

小型ランプ励起ナノ秒パルス Nd:YAGレーザー

LO38

LOTIS TII

PLD、金属ターゲットに最適！低価格・短納期、優れた集光性、電源2年間保証。

フラッシュランプ励起ナノ秒パルス Nd:YAGレーザー

• 短納期

LO37

LOTIS TII

安価・高エネルギー ナノ秒Nd:YAGレーザー

ランプ励起ナノ秒固体レーザー (ガウシアン共振器)

LO33

LOTIS TII

ロングパルス ナノ秒Nd:YAGレーザー

ランプ励起ナノ秒固体レーザー

LO34

LOTIS TII

PIV、LIBS測定に最適

ランプ励起 ダブルパルス ナノ秒固体レーザー

LO35

LOTIS TII

低価格, Ti:サファイア光源

ナノ秒Ti:サファイアレーザー

LO36

LOTIS TII

半導体励起ナノ秒YAGレーザー

半導体励起ナノ秒パルスNd:YAGレーザー

LO23

LOTIS TII

低価格のナノ秒クロムフォルステライトレーザー

ナノ秒パルスクロムフォルステライトレーザー

LO27

LOTIS TII

小型・高信頼性・高安定度。2倍波から5倍波まで対応。

ハーモニックジェネレーター/高調波発生ユニット

LO31

LOTIS TII