2025年9月3日（水）～ 5日（金）にて開催される「JASIS2025」の概要と本展示会で展示される弊社取扱製品の一部をご案内いたします。

JASIS2025 概要

・ 期間 : 2025年9月3日（水）～ 2024年9月5日（金）
・ 会場 : 幕張メッセ国際展示場（千葉県千葉市美浜区中瀬2-1）
・ 小間番号 : 5A-303
→ コチラのフロアマップより詳細位置をご確認いただけます

本展示会は、分析・科学機器などが一堂に集い、あらゆる領域の研究開発や生産技術を支援する機器・技術が展示されるアジア最大級の展示会です。
今年のJASISでは、300を超える企業・団体が一堂に会します。JASISでは、出展社によるブース展示以外にも、エキスパートからビギナーまで対応するセミナー・プレゼン・特別展示を数多くご用意しております。


展示製品 紹介

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  EDINBURGH INSTRUMENTS社製｜お問い合わせNo : ED01
  超高感度蛍光分光光度計　FS5シリーズ
  蛍光プローブ開発、創薬、蛍光材料開発の必須アイテム。超微弱発光からピコ秒・蛍光寿命測定まで1台でこなす。
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  EKSPLA, TII社製｜お問い合わせNo : SFG01
  SFG（和周波発生）分光システム
  非破壊・非接触で、表面・界面の (固体-液体-気体)の分子振動解析が可能
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  SYSTAG社製｜お問い合わせNo : SYS01
  有機合成自動化システム FlexyCUBE(マルチタイプ)
  合成反応検討の効率化に。創薬・製薬プロセスの効率化に貢献、並列に異なる反応が行えるマルチタイプ。
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  OMNICAL社製｜お問い合わせNo : OMN01
  小型反応熱量計 Super CRC
  数グラムの試料から測定可能、化学反応に伴う熱的危険性を正確に把握、タッチパネル操作
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  Tokyo Instruments Inc.社製｜お問い合わせNo : NF07
  顕微ブリルアン・ラマン分光装置 Nanofinder
  化学組成・分子構造に加えて、弾性・粘性を非接触測定
   
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  ARCoptix S.A.社製｜お問い合わせNo : AR10
  ポータブルFTIRガス分析装置 GASEX PORTA
  複数ガスを同時計測（CO2,H2O,CO,NH3,NO,NO2,N2O,SO2,CH4,HF,HCl,VOC）
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  Tiger Optics社製｜お問い合わせNo : TO01
  超低濃度ガス分析装置 HALO3シリーズ
  極微量ガス濃度の計測・管理、半導体など。製造工程中のガスモニタリング、湿度計測・湿度標準の研究開発
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  Tiger Optics社製｜お問い合わせNo : TO05
  微量水分測定装置 Spark H₂O
  サンプルガス中のH₂O分子濃度の超高感度測定。水分濃度（露点）計測に特化したローコストモデル
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  Leukos Systems社製｜お問い合わせNo : LS07
  近赤外域/中赤外域スーパーコンティニューム白色光源
  高出力広帯域 (900～2800 nm、800～4800 nm、2500～9000 nm)
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  NLIR社製｜お問い合わせNo : NIR02
  高速中赤外分光器 MIDWAVE / BUNDLE
  振動分光を高速読み出し！最大130 kHzで計測可能！アップコンバージョン法による新世代中赤外分光器
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  ARCoptix S.A.社製｜お問い合わせNo : AR02
  ポータブルFT-IR分光器（〜NIR）
  測定波⻑範囲900 nm 〜 2.5 μm（-Extend新仕様 900 nm 〜 6 μm）、⼲渉計フーリエ変換分光で低ノイズ
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  EssentOptics Ltd.社製｜お問い合わせNo : ES01
  光学素子評価品質管理用 分光光度計 PHOTON RT シリーズ
  LWIR7.5～12.5µm PHOTON RT 7512 新製品登場!
   
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  EssentOptics Ltd.社製｜お問い合わせNo : ES02
  光学レンズ評価品質管理用 分光光度計 LINZA150 シリーズ
  MWIR 2.7～5.2μm LINZA2752 登場！全自動で単レンズ・レンズアセンブリの透過率や反射率の分光特性を高精度に測定
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  OZM research社製｜お問い合わせNo : OZM02
  BAM式落つい感度試験機シリーズ
  落ついによる衝撃に対する爆発性物質の感度を測定
   
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  OZM research社製｜お問い合わせNo : OZM01
  BAM式摩擦感度試験機 FSKM 10
  M被検体の摩擦刺激に対する感度を測定可能
   
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  SI-WARE SYSTEMS,INC.社製｜お問い合わせNo : SIW03
  ポータブル赤外反射測定スキャナー
  MEMS-FTIR搭載ハンディー分析装置、1350 ～ 2500 nm反射測定
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  KP Technology社製｜お問い合わせNo : KT02
  仕事関数測定システム(APSシリーズ)
  大気中で仕事関数、イオン化ポテンシャルを測定。 有機EL材料等の評価に最適。
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  AtomTrace社製｜お問い合わせNo : ATM01
  多機能拡張型LIBS装置 Sci-Trace
  ダブル/マルチパルスNd:YAGレーザー対応可能、高分解能2次元ケミカルマッピング、検出限界1 〜 100 ppm