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分析装置
冷却ターゲット反跳イオン運動量分光器 COLTRIMS
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倒立型希釈冷凍機 QUPER
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高圧ボンブ熱量計 BCA 500
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- OZM14
爆発熱量計 DCA25
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断熱安全熱量計 ARSST
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元素分析・遠隔型LIBS装置 X-Trace
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元素分析・可搬型LIBS装置 M-Trace
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断熱熱量計 RADEX
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Enviro METROSシリーズ
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- SPC11
示差式断熱熱量計 DARC
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ジャケット式反応器自動化システム Flexy PAT
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ガス分析用 プローブラマン分析装置 GasRaman-NOCH
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- EW03
ポータブルFTIRガスセル付分光ユニット GASEX OEM
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小型反応熱量計 Super CRC
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- OMN01
プラスチックアナライザー PolyMax/PolyLab
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- EW02
超高感度熱脱離分析装置 HEMTO-TDS
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- US02
オペランドKP-PYS材料分析システム
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- KT05
ヘリウム液化システム
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- US03
有機合成自動化システム FlexyCUBE(マルチタイプ)
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- SYS01
無冷媒SQUID磁束計S700X
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- CG03
半導体ウエハカソードルミネッセンス顕微鏡システム Santis300
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- TT03
ユニバーサルガス分析システム
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- SR60
RGA用分圧ガスモニター
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- SR63
無冷媒希釈冷凍機
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- LCG01
ハンディー型大気粒子測定装置
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- TE01
次世代TOF型運動量光電子顕微鏡 METIS1000
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- SPC05
発塵検査装置
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- PSE01
卓上型XバンドESR(電子スピン共鳴分光器)
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- AX01
VSMシステム (振動試料型磁力計)
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- CG02
超高真空ケルビンプローブ(UHVシリーズ)
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- KT04
EBIC･EBACイメージングシステム
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- EL01
FE-低エネルギー電子顕微鏡/光電子顕微鏡
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- SPC04
環境制御型ケルビンプローブシステム(RHCシリーズ)
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- KT03
STEM用 CL/PL測定システム Monch
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- TT02
偏光高速度カメラ CRYSTA シリーズ
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- PHN01
小型ストークスポラリメーター POLSNAP
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- HN14
微量水分測定装置 Spark H₂O
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- TO05
環境制御 X線光電子分光装置 Enviro ESCA
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- SPC01
完全無冷媒 低温材料物性自動測定システム CFMS
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- CG01
赤外複屈折位相差測定装置 Exicor PV-Si
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- HN13
摩耗・耐久性評価装置 ABREX
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- IW01
残留ガス分析計 RGA100/200/300 CIS100/200/300
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- SR59
AFM/SPMプローブ
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- IN01
TRACEiT(非接触式3次元表面形状・粗さ測定機)
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- IW04
Dyna-SPA(摩耗・耐久性試験機)
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- IW02
UST(3次元表面形状測定器)
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- IW03
低温・超高感度カソードルミネッセンス顕微鏡システム Allalin
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- TT01
超低濃度ガス分析装置 HALO3シリーズ
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- TO01
MPA100型融点測定装置 Optimelt
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- SR52
仕事関数測定システム(APSシリーズ)
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- KT02
走査型ケルビンプローブシステム(SKPシリーズ)
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- KT01
顕微複屈折イメージングシステム Exicor MicroImager
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- HN12
紫外線積算光量計 UIT-250
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- UD03
Dual PEMストークスポラリメーター
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- HN07
ミュラー行列ポラリメーター Exicor XT
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- HN04
斜入射複屈折位相差測定装置 Exicor OIA
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- HN02
高精度複屈折位相差測定装置 Exicor
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- HN01