製品概要
EKSPLA社のNL200シリーズは、最大2.5kHzの繰り返し周波数において、高エネルギーを実現したナノ秒LD励起Nd:YAGレーザーです。
コストパフォーマンスを重視したコンパクトかつ堅牢な筐体は、組込み用途に最適です。
特長
- 最大出力 4mJ@1064nmのパルスエネルギー
- 最大2.5kHz 高パルス繰り返し
- 高いビーム品質 M2<1.3
- 容易に交換可能な波長変換モジュール
- 4波長ラインナップ(532nm、355nm、266nm、213nm）
- 10ns@1064nmパルス持続時間
- Qスイッチ
- ターンキー操作
- コンパクトで堅牢な筐体
- 付属のLabVIEW™ドライバーを使用したキーパッドやPCによるリモートコントロール
- USB, CANインターフェイス標準搭載
- 電源一体型のラックマウントタイプ選択可能 （19インラックマウントベース筐体）
用途
- MALDI イオン化光源
- LIBS
- LIDAR
- LCDリペア
- マイクロマシニング
- レーザー分光
- 材料加工、レーザークリーニング など
仕様
| 型名 | NL201 | NL202 | NL204 | |
|---|---|---|---|---|
| パルス エネルギー |
1064 nm | 0.9 mJ | 2.0 mJ | 4.0 mJ |
| 532 nm | 0.3 mJ | 0.9 mJ | 2.0 mJ | |
| 355 nm | 0.2 mJ | 0.6 mJ | 1.3 mJ | |
| 266 nm | 0.08 mJ | 0.2 mJ | 0.6 mJ | |
| 213 nm | 0.04 mJ | 0.1 mJ | 0.2 mJ | |
| エネルギー安定性 (pulse to pulse / Std. dev) |
1064 nm | <0.5% | ||
| 532 nm | <2.5% | |||
| 355 nm | <3.5% | |||
| 266 nm | <4.0% | |||
| 213 nm | <5.0% | |||
| 出力ドリフト | ±2％ | |||
| パルス幅 | <7 ～10 ns | |||
| 繰返し周波数 | 1～2500 Hz | 1～1000Hz | ||
| ビーム品質 | TEM00 M2<1.3 | |||
| ビーム径(ビーム拡がり角) | 0.7 mm (<3 mrad) | |||
| レーザーヘッド寸法 | 164×93×320 mm | |||
| 電源寸法 | 365×290×415 mm | |||
| ユーティリティ | AC85～264 V(<600 W) 単相：47～63 Hz 温度：18～30℃ 湿度：10～80%(結露なきこと) |
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| 更新日 | 更新内容 | サイズ | ダウンロード |
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