FemtoLux 30 概要
FemtoLux 30は、24時間/7日/365日で動作するために、市場が要求する仕様に適した新設計のレーザーです。
■ドライ・クーリング - 革新的な冷却システム -
通常、高出力レーザーは冷却のために水を使用します。つまり、定期的なメンテナンスが必要な大型のチラーが必要となります。 さらに、チラーは漏水する危険性があり、レーザーヘッドだけでなく、その他の高額な機器にも損傷を与える恐れがあります。 FemtoLux 30は、冷却水は使用せず、はるかに高い冷却効率を備えた革新的な直接冷媒冷却方式を採用しています。 レーザー冷却装置は、電源ユニット内に内蔵されており、総重量はわずか15kg未満で4Uラックマウントハウジングになっております。
■完璧かつ多目的ツール
様々なアプリケーションに対応出来る様に、FemtoLux 30は、＜350fsから1psまでパルス幅が可変でき、シングルショットから4MHzまでパルス繰り返し周波数を非常に広い範囲で動作します。バーストモード動作では最大エネルギー ＞250µJまで出力でき、ざまざまな材料に対してより高いアブレーション率を実現します。
FemtoLux 30は、ディスプレイ、マイクロエレクトロニクスの製造、ガラス、サファイア、セラミックなどの脆性材料のマイクロ微細加工やマーキング、さまざまな金属やポリマーのマイクロ微細加工に最適なツールとして設計されています。革新的なレーザー電子制御により、FemtoLux 30を容易に制御が行えるため、さまざまなレーザー機器に最低限の時間と労力で搭載できます。高い信頼性とゼロメンテナンスにより、レーザー機器を中断なく稼働することができます。
仕様
- 出力：>30W@1030nm
- エネルギー： >250 µJ （バーストモード時）
- パルス幅： <350 fs ~ 1 ps
- 繰り返し周波数： シングルショット~4MHz （AOM制御）
- 長時間安定性 ：<0.5% RMS （100時間）
- パルスエネルギー安定度： <1% RMS
- ビーム質：M2 < 1.2 (typical < 1.1)
特長
- ゼロメンテナンス
- ドライクーリング （完全空冷）
- 堅牢で密閉されたレーザーヘッド
- コンパクト設計 4Uラックハウジング内に冷却ユニット内蔵
- 簡単で迅速なインストール
- 幅広い用途に対応したレーザー制御
- 容易にレーザーを載せ替え可能
- ガルボスキャナー、ポリゴンスキャナー、PSOコントローラーと互換
- 2年間保証
アプリケーション
- LCD、LED、OLEDの穴あけ、切断、修理
- マイクロエレクトロニクス製造
- ガラス、サファイア、セラミックのマイクロ微細加工
- ガラスの内部加工
- 様々なポリマーのマイクロ微細加工
- 様々な金属のマイクロ微細加工
- 多光子イメージング顕微鏡用光源
- OPA励起
Movie
高出力・完全空冷 産業用フェムト秒レーザー FemtoLux 30 仕様
| 中心波長 | 1030 nm |
| 繰り返し周波数 | シングルショット～4 MHz（AOM制御） |
| 均出力 | > 27 W (typical 30 W) |
| パルスエネルギー | > 90 µJ |
| バーストパルスエネルギー | > 250 µJ |
| 長時間安定度 (Std. dev.) | < 0.5 % |
| パルスエネルギー安定度 (Std. dev.) | < 1 % |
| パルス幅 (FWHM) | 可変, < 350 fs～1 ps |
| ビーム品質 | M2 < 1.2 (typical < 1.1) |
| ビーム真円度（ファーフィールド） | > 0.85 |
| ビーム拡がり角 (全角) | < 1 mrad |
| ビーム位置安定度 | < 20 µrad/°C |
| パルス制御 | 分周機能、パルスピッカー、 バースト出力、出力調整 など |
| インターフェイス | USB / RS232 / LAN |
| 冷却機能 | ドライ（完全空冷、冷却水不要） |
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| 更新日 | 更新内容 | サイズ | ダウンロード |
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