製品概要
Skylark Lasers（旧：UniKLasers）社は、紫外から近赤外までの単一周波数、連続波、中～高出力のDPSSレーザーを開発、設計、製造しています。
ラマン分光、ブリルアン散乱、ホログラフィー、計測、フローサイトメトリー、顕微鏡、量子技術など、要求の厳しい幅広いアプリケーションにおいて、既存のシステムとの統合を目的として設計されています。
320NX/349NXモデルは、UV域において⾼い出⼒で発振するレーザーです。He-Cdレーザーや従来のガスイオンレーザーに⽐べて寿命が⻑く、レーザー⼲渉リソグラフィー（LIL）において、⾼い安定性と波⻑コヒーレンスを提供し、サブミクロン・ナノスケールでの正確なパターン形成を可能にします。また、波⻑の安定性により、⼲渉パターンの制御やばらつきの低減、⼤⾯積での均⼀性向上が実現されます。
780NXモデルは、ルビジウムの遷移周波数で発振するレーザーです。レーザーは卓越したビーム品質と安定性を実現し、また⼩型であるため原⼦時計などの⾮常に要求の厳しいアプリケーションにご利⽤いただけます。
新モデル登場
UVモデルに320 nm、349 nmがラインナップに加わりました。
特長
- シングル縦モード狭線幅 : < 0.5 MHz
- 優れた出力安定度 : 2%以下（8時間、±1.5℃）
- 高信頼性・長寿命 : 10,000時間
- 省スペース、優れた電力効率
- 低出力ノイズ : 0.1% RMS（10 Hz ～ 10 MHz）
- 優れたスペクトル安定性 : 1 pm以下（8時間、±1.5℃）
- 320 nm > 200 mW, 349 nm / 780 nm / 785 nm > 400 mW
用途
- フォトルミネッセンス（PL）
- ラマン分光法
- ブリルアン散乱
- ホログラフィー
- レーザートラッピング
- フローサイトメトリー
- 干渉リソグラフィー
- 半導体検査
- 量子センシング＆メトロロジー
関連動画
ウェビナー
⼲渉リソグラフィーにおけるC-DPSSレーザーの役割
DPSSレーザーがフォトルミネッセンスに最適な理由
Photonics+ 2021
CW単一周波数DPSSレーザーのメリットとは
仕様
| 型名 | 785 NX | 780 NX | 349 NX | 320 NX |
|---|---|---|---|---|
| 波長 | 785 nm | 780 nm | 349 nm | 320 nm |
| 出力 | 最大 400 mW | 最大 400 mW | 最大 400 mW | 最大 200 mW |
| 縦モード | シングル縦モード | |||
| 線幅 | ≦ 300 kHz | ≦ 300 kHz | ≦ 500 kHz | ≦ 500 kHz |
| ビームモード | TEM00 | |||
| スペクトル安定度 （8時間） |
± 0.2 pm | ± 0.2 pm | ± 0.2 pm | ± 0.2 pm |
| コヒーレント長 | > 100 m | |||
| 出力安定度（8時間） | < 2.0 ％ | |||
| 出力ノイズ | < 0.3％ RMS（10 Hz ～ 10 MHz） | |||
| ビーム拡がり角 | < 1.0 mrad、回折限界 | |||
| ビーム径 | 0.8 ～ 1.2 mm | >1 ～ 1.5 mm | ||
| ビーム位置安定度 | ≦ 5 μrad/℃ | |||
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| 更新日 | 更新内容 | サイズ | ダウンロード |
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