御見積 依頼フォーム

お客様情報や御見積ご依頼内容など、必要事項をご記入の上、
PDFを保存、メールまたはFAXにて送信してください。
・メールアドレス：tiiweb@tokyoinst.co.jp
・FAX番号：03-3686-4711

光イオン化高輝度真空紫外光源 製品概要

光イオン化高輝度真空紫外光源E-Lux™（Excitech社製）は、高純度の希ガス・ハロゲンガスを低圧電子線で励起して発光する画期的原理の光源です。この方法で生成されたVUVプラズマ発光点は、サイズが最小1mm³と非常に微小で、最大2×10¹⁶photons/s sr nm cm²（CW発振時）の高フォトンフラックスです。オプションの集光光学系ユニットE-Lux™-EEEと組み合せて使用すると、高効率のVUVスポット照射が可能です。フォトンエネルギーは、7.2 eV、8.4 eV、9.8 eV、10.7eVの全5種類で、CW/パルス発振切替、光強度、パルス幅、繰返周波数、トリガーの設定が行えます。光源ヘッド・集光光学系ユニット共にKF40真空フランジ付で、取り付けが簡単です。

E-Lux^TM発振波長

高フォトンフラックス

• CW発振：最大2×10¹⁶ photons/s sr nm cm²
• パルス発振：最大 2×10¹⁸ photons/s sr nm cm²（CW発振の約100倍）

微小スポット発光　最小1 mm³

集光光学系E-Lux™EEMを使用した際の空間強度分布図

CW連続発振モード、パルス発振モードの設定切替えが可能

設定パラメータ

• 出力強度設定
• 発振モード設定 (CWモード、パルスモード)
• パルス幅設定 (1～100 µs、1 ms～CW)
• 繰返し周波数設定 (最大10 ｋHz)
• トリガー設定

制御用PC必要、専用ソフトウェア制御

繰返周波数とパルス幅による光強度の変化

高安定照射

E-Lux™126の光強度安定度データ
上：秒単位の短時間安定度、下：時間単位の長時間安定度

光イオン化高輝度真空紫外光源 ラインナップ

光源ヘッド(全5種類、空冷、MgF2窓付) E-Lux^TM

• 電子線による希ガス・ハロゲンガス励起 VUV光源
• 高フォトンフラックス＆微小スポット照射
• ラインナップ　全5種類

専用共通電源（要制御用PC） E-Lux^TM EPU

• 19インチラック対応電源
• 全ヘッド共通対応、USBインターフェース

専用集光光学系ユニット E-Lux^TM EEM

• 1：1集光光学系（回転楕円体ミラー）内蔵
• 焦点距離120 mm
• KF40真空フランジ付（真空度 4×10^-8 mbar）

主な用途、アプリケーション

• イオン移動量と質量分析用 高効率光イオン化光源
  　　SPI-GC/MS：一光子イオン化 ガスクロマトグラフィー 質量分析
  　　APPI-LC/MS：大気圧光イオン化 液体クロマトグラフィー質量分析
• 光物理 および 光化学研究用
• シンクロトロン実験のラボ予備実験用
• 表面処理 （ポリマーキュアリング・マッティング、光学化学蒸着、表面洗浄・エッチング）
• 表面計測学 （分光反射測定、エリプソメトリー）
• 医学応用 （組織工学、バイオマテリアル化学）