平素は格別のお引き立てを賜り、厚く御礼申し上げます。

この度11月17日 ～ 28日に産業総合技術研究所主催で、「和周波発生分光による表面・界面解析技術」のセミナーをオンデマンド配信します。
弊社の山本が登壇し、和周波分光の概要をわかりやすく説明します。
セミナー視聴後にアンケートへご回答いただくと、資料をお受け取りいただけますので、ぜひご視聴ください。

セミナー詳細

“見えない界面”を非破壊で計測 和周波発生分光（SFG）による界面解析
日程	11月17日（月） 〜 28日（金）
スピーカー	赤池 幸紀 国立研究開発法人産業技術総合研究所 材料・化学領域 研究企画室 企画主幹（兼） 材料基盤研究部門 接着・界面研究グループ 主任研究員
	山本 貴士 博士（理学） 株式会社東京インスツルメンツ 技術部 主任
備考	本セミナーはオンラインによるオンデマンド配信です。 視聴可能期間中であれば、何度でも繰り返しご覧いただけます。

和周波発生分光（SFG）

他の表面分析手法との比較

分析法	検出感度	分子選択性	非破壊性	オペランド 測定の適用
X線光電子分光	数 nm	元素	△ （真空）	△
飛行時間型二次イオン 質量分析	1 〜 3 nm	断片	× （破壊）	×
赤外反射吸収分光	数 nm 〜	高 （振動）	◎	◎
SFG	表面・界面： 分子レベル反転 対称性の崩れたバルク	高 （振動）	◎	◎

こんな方におすすめ

・接着剤・樹脂メーカー R&D 担当者：剥離や密着課題を解決したい方
・エレクトロニクス企業 技術開発者：高信頼性の界面制御技術を模索中の方
・エネルギー企業・電池メーカー 技術者：動作環境下の界面挙動を理解し改良したい方
・分析・評価部門：製品不良の原因解析を効率化したい方

<キーワード>
接着不良解析、構造材（自動車部材）、電子材料開発（デバイス基板）、バッテリー・エネルギーデバイス、界面解析技術、オペランド測定

主要ポイント

・現場課題の解決につながる界面分析
┗ 接着不良、剥離、劣化などの原因を可視化

・競争力強化に直結する応用
┗ 電子材料・バッテリー・樹脂の性能向上

・その場観察（オペランド測定）による実環境解析
┗ 温度・電場・動作下での界面挙動を把握

・既存手法では見えない情報
┗ 分子配向や界面官能基の直接観測

・産業への波及効果
┗ 製品・技術の化学的エビデンスの確保、新製品開発の加速

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