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垂直反射による光学異方性測定
顕微光学異方性測定装置 2MGEM

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顕微光学異方性測定装置 2MGEM 顕微光学異方性測定装置 2MGEM

製品概要

HINDS社の光学異方性測定装置2-MGEMは入射角度5度以下の垂直反射測定を実現した一般化エリプソメーターです。ビームスポットは対物レンズによって4μm程度にまで集光され、 自動XYステージと組み合わせて微小領域の偏光特性マッピングが可能です。様々な偏光特性を含むミュラー行列測定により、リタデーション、光学軸方位はもちろん、 消光比や円2色性、偏光係数を求めることかできます。  偏光変調素子に光弾性変調器を採用し、従来の偏光顕微鏡による測定に比べて10倍以上の高感度を実現しています。

特長

・測定パラメーター精度0.001
・自動XYステージによるマッピング
・サンプルを回転させずに測定
・ビームスポット径 4μm
・ミュラー行列の8要素を測定し、消光比、位相差、光学軸、円二色性、偏光係数を出力

用途

・反射型光学素子の偏光測定
・金属上の複屈折膜のリタデーション、光学軸分布測定
・原子力被覆粒子の評価

原子力被覆粒子(TRISO)測定例

原子力燃料粒子の測定例

(a)ソフトウェア上にマッピング結果が表示されます。
(b)原子力燃料粒子をスライスして測定。アモルファス層とグラファイト層が識別できています。

2MGEM仕様

動作モード 反射測定
空間分解能 4μm以下
測定パラメーター精度 0.001
光源 Xeランプ
測定パラメーター 消光比
位相差
光学軸方位
円二色性
偏光係数
  • 仕様は予告なく変更になる場合があります。
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よくいただくご質問

  • この装置の特長は何ですか

    光学異方性をほぼ垂直反射で、高精度測定できることです。複屈折や2色性などを反射で測定できます。スポット径も微小で、マッピング測定ができます。
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