世界標準の高精度複屈折位相差測定装置
複屈折位相差測定装置 Exicor

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複屈折位相差測定装置Exicor 複屈折位相差測定装置Exicor

製品概要

複屈折位相差測定装置Exicor®は、半導体露光装置や液晶ディスプレイ分野で世界的に評価されています。僅かな歪みも許されないフォトマスク基板、露光装置用レンズ硝材やLCD用ガラス基板など一般的な複屈折測定装置では検出できない歪み(=リタデーション)と主軸方位を瞬時に測定します。もちろん、位相差フィルム等の偏光子素子のリタデーションも高精度に評価できます。複屈折分布はXYステージを使ってマッピングしますが、最新のScan In MotionTM技術によって短時間に高密度なマッピング測定が可能です。ステージは様々な大きさのサンプルに対応します。測定波長は極紫外から近赤外まで選択できます。特注システムにも対応しますのでご相談ください。

極低レベル複屈折測定

Exicor 極低レベル複屈折マッピング 光弾性変調器(PEM)を採用し、1nm以下の極低リタデーションの位相差分布の測定が可能。わずかな歪みをも検出します。また、HINDS社が新開発した新型ロックインアンプによって、従来機を大きく超える高速測定を実現。リタデーション分解能0.001nm、測定時間<10ミリ秒を達成しています。

用途に合わせた装置選択

サンプルサイズに合わせたマッピングステージサイズを提案します。
また、標準のHeNeレーザーだけではなく、LED光源やキセノンランプによる多波長測定、LDLS光源を使った波長193、248nmによる測定にも対応します。
その他にも、斜入射測定や反射測定など特注システムの構築も可能です。

高速マッピング測定 Scan In MotionTM

Exicor 高速マッピング測定 従来のマッピング測定は、ステージ移動と測定を繰り返すステップスキャン測定でした。そのため、測定点数が増えると測定時間が長くなる問題がありました。Exicorの"Scan In Motion (SIMTM)"はステージを移動させながら測定をおこないます。SIM機能は測定精度の低下を最小限に抑えたまま、最大100点/秒を実現しており、従来困難だった、低複屈折の高空間分解能マッピング測定を可能にしました。

主な用途

・ガラス硝材、フォトマスク基板の歪み検査
・液晶ディスプレイ用ガラス基板の歪み検査
・位相差フィルムのリタデーション、主軸方位測定
・光学結晶の研究

Exicor ATシリーズ仕様例

装置名 Exicor AT (高感度モデル) Exicor AT (λ/2モデル) Exicor ATi NIR Exicor AT
光源 HeNeレーザー LED HeNeレーザー
波長 632.8nm 655nm等 1310nm、1550nm等
位相差測定範囲 0〜120nm以上 0〜λ/2
位相差分解能 0.001nm 要確認
位相差繰返し精度 ±0.008nm ±0.015nm ±0.01nm 要確認
進相軸分解能 0.01度 要確認
進相軸繰返し精度 ±0.05度@5nm ±0.07度@5nm ±0.1度@5nm 要確認
測定スポット径 1mm 3mm 1mm
測定時間 <1秒/点
Scan In Motion追加 最速100点/秒
  • 仕様は予告なく変更になる場合があります。
  • その他の測定波長についても対応可能です。
 

Exicor DUVシリーズ仕様例

装置名 Exicor DUV Exicor 193DUV
光源 重水素ランプ LDLS光源
波長 157nm、193nm、248nm 193nm、248nm等
位相差測定範囲 0〜λ/2
位相差分解能 0.01nm
位相差繰返し精度 ±0.08nm ±0.04nm
進相軸分解能 0.01度
進相軸繰返し精度 ±0.05度@5nm
測定スポット径 3~5mm
測定時間 2秒/点
窒素パージ 必要(157nm測定時) 不要
排気設備 必要 必要(オゾン排気用)
  • 仕様は予告なく変更になる場合があります。
  • その他の測定波長についても対応可能です。
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よくいただくご質問

  • 微小なリタデーション(歪み)を測定できますか

    HINDS社のExicorシリーズは、特に低リタデーションの測定性能が優れています。わずかなリタデーションの違いを正確に測定する能力を持っています。そのため、わずかなガラスの歪み分布も検出可能です。
  • 主軸方位の測定はできますか

    リタデーションと同時に主軸方位(進相軸)を高精度に測定します。
  • 測定波長の切り換えは可能ですか

    レーザー、LED光源等は予め仕様を決定します。ランプ光源やLDLS白色光源モデル等は、波長切替が可能です。ご相談ください。
  • 測定試料に合わせたステージやサンプルホルダーを用意することは可能ですか

    標準で150mmからG6ガラス以上のサイズのステージを用意しています。サンプルホルダーも作製します。特注ステージなどもご相談ください。
  • どのような用途で使用されていますか

    フォトマスク基板やレンズ硝材、液晶ディスプレイ基板や位相差フィルムの検査や、これらの開発用として使用されています。また、結晶構造による複屈折分布の測定など、理化学分野でも活躍しています。
  • 透過測定ではなく、反射測定は可能ですか

    対応可能です。ご相談ください。
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