高フォトンフラックス & 微小スポット発光
電子線による希ガス・ハロゲンガス励起の画期的なVUV光源

光イオン化用 高輝度真空紫外光源

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Excitech GmbH
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光イオン化用 高輝度真空紫外光源 光イオン化用 高輝度真空紫外光源

製品概要

光イオン化用 高輝度真空紫外光源E-Lux™(Excitech社製)は、高純度の希ガス・ハロゲンガスを低圧電子線で励起して発光する画期的原理の光源です。この方法で生成されたVUVプラズマ発光点は、サイズが最小1㎜3と非常に微小で、最大2×1016photons/s sr nm cm2(CW発振時)の高フォトンフラックスです。オプションの集光光学系ユニットE-Lux™-EEEと組合せて使用すると、高効率のVUVスポット照射が可能です。フォトンエネルギーは、7.2/8.4/9.8/10.2/10.7eVの全5種類で、CW/パルス発振切替、光強度、パルス幅、繰返周波数、トリガーの設定が行えます。光源ヘッド・集光光学系ユニット共にKF40真空フランジ付で、取付けが簡単です。

特長

●高フォトンフラックス
 CW発振 最大2×1016 photons/s sr nm cm2
 パルス発振 最大 2×1018 photons/s sr nm cm2(CW発振の約100倍)

●微小スポット発光 最小1 mm3

空間強度分布

集光光学系E-Lux™EEMを使用した際の空間強度分布

●CW/パルス発振切替、光強度、パルス幅、繰返周波数、トリガー設定可能

光強度の変化グラフ

繰返周波数とパルス幅による光強度の変化

制御用ソフトウェア設定画面図

制御用ソフトウェア設定画面

●取付簡単 KFフランジ付

●高安定照射

光強度安定度データ

E-Lux™126の光強度安定度データ
(上:秒単位の短時間安定度、下:時間単位の長時間安定度)

●コールドラディエーション / サンプル加熱なし

●高速On/Off制御可能

装置構成

ランプユニット

コンパクト光源ヘッド
(246×80×90 mm、空冷、MgF2窓付、保証寿命1000時間)
E-LuxTM 116(10.7eV)
E-LuxTM 121(10.2eV)
E-LuxTM 126(9.8eV)
E-LuxEM 147(8.4eV)
E-LuxTM 172(7.2eV)

専用電源

専用共通電源(19インチラック1段分)
(要制御PC)
E-Lux™EPU

集光光学系ユニット

集光光学系ユニット(オプション)
(1:1集光系、回転楕円体ミラー、標準焦点距離f=120 or 150 mm)
E-Lux™EEM

主な用途

● イオン移動量と質量分析用 高効率光イオン化光源
 SPI-GC/MS:一光子イオン化 ガスクロマトグラフィー 質量分析
 APPI-LC/MS:大気圧光イオン化 液体クロマトグラフィー質量分析
● 光物理 および 光化学研究用
● シンクロトロン実験のラボ予備実験用
● 表面処理 (ポリマーキュアリング・マッティング、光学化学蒸着、表面洗浄・エッチング)
● 表面計測学 (分光反射測定、エリプソメトリー)
● 医学応用 (組織工学、バイオマテリアル化学)

高輝度真空紫外光源 E-Lux™仕様

型名 E-Lux™ 116 E-Lux™ 121 E-Lux™ 126 E-Lux™ 147 E-Lux™ 172
中心波長 (nm) 116 121.56 126 147 172
FWHM (nm) <1 <3×10-3 10 10 10
フォトンエネルギー (eV) 10.7 10.2 9.8 8.4 7.2
フォトンフラックス CW
photons / (s sr nm cm2)
2×1014 2×1018 2×1016 2×1016 2×1016
フォトンフラックス Pulsed
photons / (s sr nm cm2)
2×1016 2×1020 2×1018 2×1018 2×1018
発光部サイズ (mm) 1 3 1 1 1
開口径 (mm) 10
パルス幅 1〜100μs と 1ms〜CW
繰返し周波数 <10kHz
寿命 1000時間
窓材質 MgF2
冷却方式 空冷
標準フランジ ISO KF40
オプションアクセサリー E-Lux™ EEM光学モジュール
(標準焦点距離120mmまたは150mm)
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よくいただくご質問

  • 発振原理はどうなっていますか?

    電子線で希ガス・ハロゲンガスを励起して発光する原理です。
  • スポット照射は可能ですか?

    オプションの集光光学系モジュールを光源ヘッドに接続する事で、元の発光部サイズ1mmを回転楕円体ミラーで集光して照射することができます。
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